一.發明專利早期公開制度 from智財局
1. 早期公開制度是什麼？
ANS: 發明專利申請案的審查期限較長，如果要等到實體審查審定核准才公開其申請的內容，可能造成第三人對於同一技術內容進行重複研究、投資或申請，無法充分發揮專利制度的功用。
早期公開制度係自專利案申請後，經過一定之期間，即解除保密狀態，而使大眾經由公開得知申請專利之技術內容，藉以避免企業活動重複投入研發及投資的浪費，並可使第三人得因發明技術內容之公開而及早獲得相關技術資訊，從事進一步研究發展，以提升產業之競爭能力。
早期公開制度另配套有申請實體審查及暫時性保護等措施，即發明專利申請案如欲取得專利權，必須於申請後的一定期間內另行提出實體審查申請，而於公開後至審定公告期間，則享有暫時性保護。
2. 何謂暫時性保護措施？
ANS: 發明申請案公開後，第三人即可知悉該發明技術，為商業上之實施。由於此時專利申請人尚未取得專利權（專利申請案自審定公告之日始發生暫准專利權之效力），為填補專利申請人這段時間之損失，專利法規定專利申請人於將來取得專利權後，對該第三人得請求適當之補償金，做為彌補。
暫時性保護措施係指發明專利申請人對於申請案公開後，曾以書面通知發明專利申請內容，而於通知後審定公告前就該發明仍繼續為商業上實施之人，得於發明申請案審查確定取得專利權後，請求適當之補償金。對於明知發明申請案已經公開，於審定公告前就該發明仍繼續為商業上實施之人，亦得為該請求。上述補償金請求權，自審查確定之次日起，二年間不行使而消滅。
3. 早期公開制度實施後，說明書或圖式補充、修正之期間有何特別規定？
ANS: 申請人得於申請之次日（如有主張優先權者，自最早優先權日之次日）起，十五個月內主動提出補充、修正說明書或圖式。此外，申請人尚可於申請實體審查之同時提出補充、修正。若係申請人以外之人申請實體審查者，於申請案進行實體審查通知送達之次日起三個月內，申請人可提出補充、修正。發明申請案如為九十一年十月二十六日前已提出者，因不適用早期公開制，故不受前述規定之規定。
4. 於公開前補充、修正說明書時，將公開原說明書或其修正本？
ANS: 發明申請案於申請之次日（如有主張優先權者，為最早優先權日之次日）起十五個月內提出補充、修正者，將依最新修正內容予以公開。若逾上述期限始提出補充、修正，因智慧財產局已開始進行公開準備作業，該補充、修正內容將不予公開，仍依原申請案之內容予以公開。